پوشش کامپوزیت Ni–P–SiC با ذرات ریز

از زمان، اختراع تکنولوژی پوشش الکترولس در سال 1946 توسط A. Brenner و G. Riddell، پوشش های الکترولس نیکل به علت ویژگی های منحصر به فرد آن در بسیاری از زمینه ها استفاده شده است. ساختار الکترولس Ni-P به عنوان پوششی با محتوای فسفر زیاد است. با این حال، این ساختار آمورف متاستاز است و با افزایش درجه حرارت  یک گذار بلوری را تحت تاثیر قرار می دهد[1-6]. پس از عملیات حرارتي مناسب، پوشش به كريستال تبديل شد و توانايي سختي و ضد سايش آن به شدت بهبود يافت. ذرات ضخیم در فلزات رسوبی الکترولس یک روش مناسب برای تهیه پوشش های کامپوزیتی است و ذرات خواص مکانیکی و فیزیکی آن را افزایش می دهند [7]. پوشش های کامپوزیت مقاوم در برابر سایش با SiC، Al2O3 و غیره وجود دارد. SiC یک نوع مواد الکترونیکی مفید و دارای مواد سرامیکی قوی با مقاومت خوردگی عالی و فرسایش است. بنابراین پوشش های کامپوزیتی الکترولس (نیکل فسفر کاربید سیلیسیوم) Ni-P-SiC جذاب و قبلاًمورد بررسی قرار گرفته اند[8.9].

تصویر میکروسکوپ الکترونی روبشی از نانوذرات کاربید سیلیسیوم

نمودار پراش پرتوی ایکس پوشش

جدول سختی پوشش (HV₅₀)

References

[1] T.H. Hentschel, et al., Acta Mater. 48 (2000) 933.

[2] B. Farber, et al., Acta Mater. 48 (2000) 789.

[3] R.C. Agarwala, S. Ray, Z. Metallkde. 83 (1992) 199.

[4] R.N. Duncan, Plat. Surf. Finish. 83 (1996) 65.

[5] Kwang-Lung Lin, Po-Jen Lai, J. Electrochem. Soc. 136 (1989) 3803.

[6] K.G. Keong, W. Sha, S. Malinov, J. Alloy Compd. 334 (2002) 192.

[7] G.O. Mallory, J.R. Hajdu, Electroless Plating, AESF, USA, 1990.

[8] C.K. Chen, H.M. Feng, H.C. Lin, M.H. Hon, Thin Solid Films 416 (2002) 31.