ترجمه و ویرایش توسط واحد فنی مهندسی شرکت جلاپردازان پرشیا
2.0-5.5 oz/gal
15-40 g/l
نقره به صورتKAg(CN)2
1.6-16oz/gal
12-120 g/l
پتاسیم سیانید (آزاد)
2oz/gal
15 g/l
پتاسیم کربونات
70-85ºF
20-30 C
دما
5-40 A/ft2
0.5- 4.0 A/dm2
دانسیته جریان
0.7-2.5oz/gal
5-20 g/l
3.3-10.0oz/gal
25-75 g/l
60-80ºF
15-25 C
1.0-7.5 A/ft2
0.1- 0.7 A/dm2
0.5-0.7 oz/gal
3.5-5 g/l
10-13oz/gal
8-100 g/l
پتاسیم کربونات(حداقل)
15-26 C
5-10 A/ft2
0.5- 1.0 A/dm2
فرآیندB
فرآیندA
پارامترها
11.25-18.75 g/L(1.5-2.5oz/gal)
21-24 g/L(2.8-3.2oz/gal)
غلظت نقره راک
15-18.75 g/L(2-2.5oz/gal)
غلظت نقره بارل
8.5-9.5
8-9
pH
16-24ºC(60-75ºF)
16-29ºC(60-85ºF)
محدوده دما
0.5-2.2 A/dm2(5-20 A/ft2)
0.1-2.2 A/dm2(1-20A/ft2)
دانسیته جریان راک
0.5-1.6 A/dm2(5-15 A/ft2)
0.3-0.6 A/dm2(3-6 A/ft2)
دانسیته جریان بارل
نقره
نقره، فولاد ضد زنگ یا آلیاژPt/Ti
جنس آند
2:1
1:1- 1:2
نسبت مساحت آند به کاتد
میله ی کاتد، هوادهی در آند
میله ی کاتد، اسپارگرSPARGER
تلاطم
پایداریpH محلول در هر دو روش بسیار مهم می باشد. اگر در هر دو روشpH محلول به زیر7.5 رود، ساختار کمپلکس تغییر خواهد کرد،که نتیجه ی آن رسوب فلز نقره خواهد بود. این فرآیند برگشت ناپذیر است. سیستم های جدید فاقد بافر مناسب اند و به دلیل شرایطpH پایین در آند، دارای مشکل زمان حمام کوتاه است. با به کارگیری سیستم های بافری بهتر و پایداریPH هر دو روش تهیه توانسته اند از چندیدن حمام مختلف در شرایط تولید استفاده کنند. جالب توجه است که در فر آیند هایی که از عامل تلاطم در آند استفاده می شود، دوام بیشتری را نشان می دهد و این دوباره نشان از اهمیتpH در آند دارد.
4oz/gal
30g/L
نقره(به صورت پتاسیم نقره دی ساکسینامید )
1.5-7.4oz/gal
11.5-55 g/L
ساکسینامید
6.0oz/gal
45 g/L
پتاسیم سیترات
8.5
77ºF
25ºC
5.5 A/ft2
1 A/dm2
3.3oz/gal
24 g/L
3.4oz/gal
25 g/L
6.7oz/gal
50 g/L
پتاسیم سولفات
7.5-9.0
70-160ºF
20-70ºC
0.54 A/dm2
5-10oz/gal
40-75 g/L
نقره به صورت(KAg(CN)2)
8-16oz/gal
60-120 g/L
نمک های بافر کننده/ هدایت کننده
8.0-9.5
140-160ºF
60-70ºC
300-3500 A/ft2
30-380 A/dm2
Jet plating
Pt یاPt/Nb
آند