شنبه تا پنجشنبه : 17 - 8
تهران - شهرک صنعتی باباسلمان
شهریار، شهرک صنعتی باباسلمان، خیابان صنعت

ایندیوم سیانیدی

  • آبکاری ایندیوم از نگاه متال فینیشینگ

    آبکاری ایندیوم از نگاه متال فینیشینگ

    INDIUM PLATING

     

    INDIUM PLATING

    INDIUM CYANIDE BATH

    Indium is the only trivalent metal that can readily be electrodeposited from a cyanide solution. Solution make-up and operational parameters are summarized in Table I. Indium hydroxide [In(OH)3] is first prepared by the precipitation of indium chloride (InC1,) using ammonium hydroxide or sodium hydroxide. The purified and dried In(OH), is then dissolved in an alkaline cyanide solution stabilized with a sugar such as D-glucose, dextrose, or sorbitol. The cyanide bath is used in applications demanding extremely high throwing power and adhesion. Deposits are uniform and bright matte in appearance. Since this a high pH bath, it has the disadvantage of requiring the use of insoluble anodes, necessitating replenishment in the form of an indium cyanide concentrate. Its cathode efficiency is initially 90%, but upon bath aging decreases from this value to SO-75%. Periodic determination of the plating rate is thus required.

    آبکاری ایندیوم

    حمام سیانیدی ایندیوم

    ایندیوم تنها فلز سه ظرفیتی است که می تواند براحتی از یک حمام سیانیدی آبکاری شود. پارامترهای تهیه و عملکرد محلول مربوطه در جدول 1 خلاصه شده است. در ابتدا ایندیوم هیدروکساید [In(OH)3] توسط ترسیب ایندیوم کلرایدIn(C1)3 با استفاده از آمونیوم هیدروکساید یا سدیم هیدروکساید تهیه می شود. سپس In(OH)3 خالس سازی  و خشک شده در محلول قلیایی سیانیدی توسط قندهایی مانند D-گلوکز، دکستروس یا سوربیتول پایدار سازی می شود. عموما از حمام های سیانیدی برای تامین محلولهایی با قدرت پرتاب و چسبندگی بسیار بالا استفاده می شود. پوشش های حاصل از چنین حمامهایی ظاهری یکنواخت و براق دارند. از آنجایی که این یک حمام با PH بالا است، استفاده از آندهای نامحلول با مشکلاتی همراه است چراکه برای شارژ وان باید مرتب کنسانتره ایندیوم سیانید به محلول اضافه شود. در ابتدا بازده کاتد 90% است اما با پیر شدن محلول این مقدار تا 70% کاهش می یابد. نیاز است تا به طور مرتب نرخ پوشش دهی اندازه گیری شود.

    INDIUM SULFAMATE BATH

    The indium sulfamate bath was developed to overcome several disadvantages of the cyanide bath. The sulfamate bath bas the advantages of using soluble indium anodes and possesses a relatively constant cathode efficiency of 90%, which remains stable for the life of the bath. Sulfamate baths are very stable and are considered one of the easiest of all plating baths to operate and control. They even have a built-in pH indicator in that a milky white precipitate of indium hydroxide becomes evident if the pH should rise to >3.5.

    حمام ایندیوم سولفامات

    حمام ایندیوم سولفامات با هدف فائق آمدن بر برخی از معایب حمام سیانیدی طراحی شده است. حمام پایه سولفاماتی مزایایی از قبیل استفاده از آند انحلال پذیر و بازده ثابت 90% برای کاتد دارد که باعث می شوند این حمام طول عمر پایدار تری داشته باشد. حمام سولفامات بسیار پایدار است و از نظر کنترل شرایط و عملکرد یکی از ساده ترین حمام ها به شمار می رود. حتی این وان یک شناساگر pH درونی دارد به این ترتیب که اگر pH بزرگتر از 3.5 باشد ایندیوم هیدروکساید که ترکیب شیری رنگ است در محلول تشکیل می شود.  

    It is desirable; however, to closely control pH preferably to 1.5-2.0. The pH tends to rise on operation and is lowered by the addition of granular sulfamic acid.

    این حالت مطلوب است، با این حال، بهتر است pH تقربا حوالی 1.5-2 کنترل شود. هنگام کار کردن وان، pH محلول همواره تمایل به افزایش دارد که با افزودن سولفامیک اسید گرانولی میتوان آن را کاهش داد.

    The bath possesses a throwing power only slightly less than the cyanide bath; deposits are uniform and bright matte in appearance. Operational parameters are summarized in Table 11. One or more still water rinses incorporated after the plating tank will function as drag-out stations. Indium is easily recovered as In(OH), by adjusting the pH to >5 with sodium hydroxide. The indium hydroxide formed is allowed to settle and then is collected so it can be shipped to refiners.

    قدرت پرتاب این محلول فقط به میزان خیلی کمی در مقایسه با همتای سیانیدی خود کمتر است. رسوبات حاصل ظاهری یکنواخت و براق دارند. پارامترهای عملیاتی در جدول 11 خلاصه شده است. یک یا چند مرحله شستشو بعد از فرایند آبکاری به عنوان ایستگاه های جمع آوری محلول خارج شده همراه با قطعه عمل می کنند. با افزایش 5<pH توسط سدیم هیدروکساید به راحتی میتوان ایندیوم را بصورت In (OH)3 بازیابی نمود. ایندیوم هیدروکساید تشکیل شده در ته وانها ترسیب شده و میتوان آن را جمع آوری کرد و به refiners منتقل کرد.

    Indium fluborate bath

    The fluoborite bath offers the advantages of fine-grained deposits, ease of formulation from stable concentrates, and low fluctuations in bath composition. The pH is controlled by additions of fluoboric acid to the range 0.5-1.5. The bath uses pure indium anodes at 100% anode efficiency. The major drawback of this bath is the low cathode efficiency of 40-75%, which offsets advantages of plating at higher current density. A split anode system (indium and platinum) is usually employed to aid in equalizing the variances in the cathode and anode current efficiencies. Table I11 lists the operational parameters of the indium fluoborite bath.

    حمام ایندیوم فلوبورات

    حمام فلوبوراتی دارای مزایایی از قبیل رسوبات ریز دانه، سهولت فرمولاسیون از کنسانتره های پایدار و نوسانات کم در ترکیب حمام را ارائه می دهد. با افزودن اسید فلوبوریک  pH  در محدوده 0.5-1.5 کنترل می شود. در این حمام از آندهای خالص ایندیوم با بازده 100٪ آندی استفاده می شود. اشکال اصلی این حمام بازده پایین40-75٪ کاتدی است، که برای جبران آن نیاز به دانسیته های جریان بالا برای آبکاری است. معمولا برای کمک به تراز تغییرات در راندمان دانسیته بازده کاتد و آند از یک سیستم anode تقسیم شده (ایندیوم و پلاتین) استفاده می شود. در جدول III پارامترهای عملیاتی حمام ایندیوم فلوبورات لیست شده است.

    COMPLEXED CHELATED ALKALINE BATHS

    In the attempt to formulate a noncyanide alkaline bath employing soluble indium anodes, several baths have been proposed using EDTA, nihilotriacetic acid, tartrates, and other chelating agents. Most have limitations in poor cathode efficiency and ease of recovery of spent plating solution and are not in widespread commercial use as compared with the sulfamate bath.

    حمامهای قلیایی شلاته شده پیچیده

    در تلاش برای فرمول یک حمام قلیایی غیر سیانیدی با استفاده از آندهای ایندیوم محلول، چندین حمام با استفاده از EDTA ، اسید نیتریلوتری استیک اسید، تارتارات ها و سایر عوامل شلاته کننده پیشنهاد شده است. اکثر این حمام با محدودیت هایی در بازده ضعیف کاتد و سهولت بازیافت محلولهای آبکاری مواجه هستند و از این رو در مقایسه با حمام سولفامات چندان تجاری سازی نشدند.

     

    INDIUM1

     

    Replenishmenr: Since insoluble anodes are used, it is necessry to replace the indium metal content of this alkaline bath. A concentrate can be added directly to the bath. Under normal conditions, addition of cyanide will not be required; it is best to keep the cyanide concentration at 100g/l.

     Eflciency: Plating efficiency of the bath will be maintained within a range suitable enough for normal plating until the indium content is reduced. Its plating rate should be checked at regular intervals because, as the bath is depleled, a decrease in rate of deposition is to be expected.

    شارز محلول: از آنجایی که از آندهای نامحلول استفاده می شود، لازم است تا محتوای فلزی ایندیوم مصرف شده مرتبا در حمام جایگزین شود. یک ترکیب کنسانتره می تواند به طور مستقیم به حمام اضافه شود. در شرایط عادی، افزودن سیانید ضرورتی ندارد؛ بهتر است که غلظت سیانید را در مقدار ثابت 100 گرم بر لیتر حفظ کنید.

     بازده: تا زمانی که محتوای ایندیوم کاهش می یابد بازده آبکاری حمام در محدوده ای مناسب برای پوشش دهی معمولی حفظ خواهد شد. نرخ پوشش دهی باید در فواصل زمانی منظم بررسی شود، زیرا، به دلیل تخلیه شدن حمام، انتظار می رود که نرخ رسوب دهی نیز کاهش یابد.

     

    INDIUM2

     

    The pH of the bath is conuotled bythe addition of sulfamic acid.

    pH حمام با افزایش سولفامیک اسید کنترل میشود.

     

    INDIUM3

     

    The  pHof this bath is controlled bythe addition of 42%fluoboric acid. Some insoluble anodes (platinum or graphite) should beused. asthe anode andcathode efficiency arc not in goodrelation.

    pH  این حمام با افزودن 42٪ اسید فلوبریک کنترل می شود. از بعضی از آندهای نامحلول (پلاتین یا گرافیت) باید استفاده شوند. در مواقعی که بازده آند و کاتد در نسبت خوبی نباشند.

    Prepared by research and development unit of jalapardazan (JP)

    July 2018

    BY: M.J phd

    تهیه شده در واحد پژوهش و گسترش جلاپردازان پرشیاJP)

    مرداد97

    گرداوری و ترجمه: دکتر م.ج

  • روش آنالیز وان آبکاری ایندیوم سیانیدی

    روش آنالیز وان آبکاری ایندیوم سیانیدی

    .

    روش آنالیز وان آبکاری ایندیوم سیانیدی  ‏

    محاسبات:

    (ml,N, M تیترانت،)

    تغییر رنگ تیترانت معرفها (به ترتیبی که آورده شده است باید اضافه شوند) اندازه نمونه اجزای مورد آنالیز حمام ایندیوم سیانیدی

    In (oz/gal)=

    ml*7.655*N

    از قرمز به آبی

    EDTA 0.1 مولار                                                                             

    100 سی سی آب مقطر، 50 سی سی محلول راشل، 10 سی سی بافر باpH 10را با هم ترکیب کرده و تا دمای 140 درجه فارنهایت حرارت میدهیم.سپس پودر EBT را به آن اضافه می کنیم.

    2ml

    In

    Total KCN (oz/gal)=

    ml*3.473*N

    از محلول شفاف به یک محلول کدر

    AgNO3 0.1 مولار

    100 سی سی آب مقطر ، 20 سی سیNAOH 20% و 10 سی سی محلولKI 10%

    5ml

    KCN کل

    KCN آزاد (oz/gal)=

    ml*3.473*N

    از محلول شفاف به یک محلول کدر

    AgNO3 0.1 مولار

    100 سی سی آب مقطر  و 10 سی سی محلولKI 10%

    5ml

    KCN آزاد

    KOH (oz/gal)=

    ml*1.496*N

    از نارنجی به زرد

    HCl 1.0 نرمال

    25 سی سی آب مقطر و سولفو اورانژ 5ml

    KOH

    توجه: جهت تبدیل واحد (oz/gal) به ml/L عدد بدست آمده را در 7.8125 ضرب نمایید.

    توجه: جهت تبدیل واحد ‏(oz/gal)‏ به ‏g/L‏ عدد بدست آمده را در 7.5 ضرب نمایید.‏

    1.برای تهیه محلول 0.1 ‏مولار ‏EDTA‏37.0 گرم Na2EDTA.2H2O‏ در یک ‏لیتر آب مقطر حل کنید.

    2.برای تهیه AgNO3‏ 0.1 ‏نرمال، 17.0‏ گرم ‏AgNO3‏ را در ‏یک لیتر آب مقطر حل کنید.

    3.برای تهیه HCl‏ 1.0 نرمال، ‏89 سی سیHCl‏ ‏‏36% را در یک ‏لیتر آب مقطر حل کنید.

    3.برا تهیه KI 10%، 100 گرم KI را در یک لیتر آب مقطر حل کنید.

    4.برای تهیه محلول راشل، 200 گرم نمک راشل در 800 سی سی آب مقطر حل کنید.

    5.برای تهیه بافر با 10=Ph ، 350 سی سی NH4OH غلیظ، 54 گرم NH4C1 و 625 سی سی آب مقطر حل کنید.

    6.برای تهیه پودرEBT ، 2.0گرم اریوکروم بلک T در 198 گرم NaCl حل کنید.

    7.برای تهیه سولفواورانژ،100 سی سی سولفو اورانژ، 100 گرم NaCN، 845 سی سی آب مقطر حل کنید.

    7- برای تهیهNaOH 20%، 20 گرم سود را در 100 سی سی آب مقطر حل کنید.

     

    روش آنالیز وان ایندیوم سیانیدی :

    آنالیز فلز ایندیوم In:

    1. ml 2 نمونه از وان بردارید
    2. 100 سی سی آب مقطر، 50 سی سی محلول راشل، 10 سی سی بافر با pH 10را با هم ترکیب کنید
    3. تا دمای 140 درجه فارنهایت حرارت دهید
    4. سپس پودر EBT را به آن اضافه می کنیم
    5. با EDTA 0.1 مولار تیتر کنید
    6. تا محلول از قرمز به آبی تغییر رنگ دهد
    7. با استفاده از فرمول زیر غلظت ایندیوم محاسبه می شود:

    In (oz/gal)= ml*7.655*N

    آنالیز KCN کل:

    1. ml 5 نمونه از وان بردارید
    2. 100 سی سی آب مقطر به آن اضافه کنید
    3. 20 سی سی NAOH 20% به آن اضافه کنید
    4. 10 سی سی محلول KI به آن اضافه کنید
    5. با AgNO3 0.1 مولار تیتر کنید
    6. تا از محلول شفاف به یک محلول کدر برسید
    7. با استفاده از فرمول زیرغلظت  KCN کل را محاسبه کنید

    Total KCN (oz/gal)=  ml*3.473*N

    آنالیز KCN آزاد:

    1. ml 5 نمونه از وان بردارید
    2. 100 سی سی آب مقطر به آن اضافه کنید
    3. 10 سی سی محلول KI 10% به آن اضافه کنید
    4. با AgNO3 0.1 مولار تیتر کنید
    5. تا جایی که از محلول شفاف به یک محلول کدر تغییر کند
    6. از فرمول زیر برای محاسبه غلظت KCN آزاد استفاده کنید

    KCN آزاد (oz/gal)= ml*3.473*N

    آنالیز KOH:

    1. ml 5 نمونه از وان بردارید
    2. 25 سی سی آب مقطر به نمونه اضافه کنید
    3. سولفو اورانژ را به آن اضافه کنید
    4. با HCl 1.0 نرمال تیتر کنید
    5. تا جایی که محلول از نارنجی به زرد تغییر رنگ دهد
    6. با استفاده از فرمول زیر مقدار غلظت KOH را محاسبه کنید:

    KOH (oz/gal)= ml*1.496*N

    نکات آنالیز:

    • v توجه: در فرمولهای فوق پارامترهای ml,N, M به ترتیب عبارتند از:
    • v حجم مصرفی تیترانت= ml،
    • v مولاریته تیترانت= M
    • v نرمالیته تیترانت= N

     

     

     ترجمه : تحقیق و توسعه جلاپردازان

    مراجع و منابع: کتاب متال فنیشینگ 2013Metal finishing

     

     

     

     

     

     

     

jala-logo4.png
شرکت جلاپردازان پرشیا
تولیدکننده محصولات و تجهیزات آبکاری
خدمات آبکاری، پوشش دهی و مشاوره
تهران - شهرک صنعتی باباسلمان
02165734701 - 02165734702
ایمیل: service@jalapardazan.com

جستجو